Applied logistic regression.

Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Hoofdauteur: Hosmer, David W (autor)
Andere auteurs: Lemeshow, Stanley (autor), Sturdivant, Rodney X (autor)
Formaat: Boek
Taal:Engels
Gepubliceerd in: Hoboken, Estados Unidos: John Wiley and Sons, 2013.
Editie:3a. edición.
Reeks:Wiley Series in Probability and Statistics.
Onderwerpen:
Tags: Voeg label toe
Geen labels, Wees de eerste die dit record labelt!